专利名称：形成图案的方法，薄膜晶体管，显示设备及其制造
方法，以及电视设备
专利类型：发明专利
发明人：前川慎志,城口裕子,藤井严申请号：CN200580008835.0申请日：20050316公开号：CN1934713A公开日：20070321
摘要：根据本发明的一种形成图案的方法包括步骤：在具有透光性质的衬底上形成掩模；在衬底和掩模上形成具有包含光吸收材料的物质的第一区域；通过使用具有可由光吸收材料吸收的波长、通过衬底的光照射该物质以修改物质表面的一部分而形成第二区域；以及通过将包含图案形成材料的化合物排放到第二区域来形成图案。
申请人：株式会社半导体能源研究所
地址：日本神奈川
国籍：JP
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：秦晨
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