专利名称：用于光学光刻系统的监视系统专利类型：发明专利
发明人：A·多罗班图,M·R·格雷厄姆,J·J·索内斯,K·M·奥布里恩申请号：CN201880033471.9申请日：20180402公开号：CN110651228A公开日：20200103
摘要：监视光学光刻系统。从光学光刻系统接收信息；访问规则，该规则与光学光刻系统中的事件和时间量中的一项或多项相关联；基于访问的规则标识存储在模块库中的模块；使用所标识的模块和从光学光刻系统接收的信息，确定光学光刻系统中是否存在特定条件；并且如果存在特定条件，则基于特定条件的一个或多个特性来生成命令信号，并将命令信号提供给光学光刻系统的光源。该命令信号基于所确定的特定条件，并且该命令信号足以改变光源的一个或多个操作参数。
申请人：西默有限公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京市金杜律师事务所
代理人：董典红
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