专利名称：一种以二芳杂环并茚芴单元为核的双极性小分子发
光材料制备方法与应用
专利类型：发明专利
发明人：应磊,赵森,郭婷,杨伟,彭俊彪,曹镛申请号：CN201710101541.7申请日：20170224公开号：CN106866679A公开日：20170620
摘要：本发明公开了一种以二芳杂环并茚芴单元为核的双极性小分子发光材料及其制备方法与应用。本发明通过Suzuki偶合反应制备以二芳杂环并茚芴单元为核的双极性小分子发光材料合成方法简单，容易提纯，有利于工业化应用。本发明以二芳杂环并茚芴单元为核的双极性小分子发光材料中，二芳杂环并茚芴平面性较好，具有较大的荧光量子产率；同时，具有良好的溶解性、成膜性和薄膜形态稳定性，适合进行溶液加工和印刷显示，用于发光二级管的发光层的制备，基于该双极性小分子发光材料的发光层在制备器件时不用退火处理，使得制备工艺简单。
申请人：华南理工大学
地址：510640 广东省广州市天河区五山路381号
国籍：CN
代理机构：广州粤高专利商标代理有限公司
代理人：何淑珍
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