专利名称：流体涂敷系统以及流体涂敷方法专利类型：发明专利
发明人：森正树,杉野祥弘,胁坂秀明申请号：CN201480047353.5申请日：20140827公开号：CN105555418A公开日：20160504
摘要：本申请涉及一种流体涂敷系统(10)，其包括将流体喷到工件上的涂敷装置(20)、使该涂敷装置(20)与工件相对移动的移动装置(30)和控制涂敷装置(20)的控制装置(11)。控制装置(11)在通过调整动力源(22)的输出来使来自喷嘴(23)的流体的喷出量改变目标变动量(F1)时，以使喷嘴(23)的内压力的变化量成为根据喷出量的目标变动量(F1)所求出的喷嘴(23)的内压力的应该变化的量(P1)的方式，使动力源(22)的输出为暂时超出根据喷出量的目标变动量(F1)所求出的动力源(22)的理论上的输出(N1)的值，然后使其为理论上的输出(N1)。由此，在使来自喷嘴(23)的每个单位时间的流体的喷出量发生变动时能够抑制喷出量的响应延迟。
申请人：兵神装备株式会社
地址：日本国兵库县神户市兵库区御崎本町1丁目1番54号
国籍：JP
代理机构：北京汇思诚业知识产权代理有限公司
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