专利名称：在衬底中的大高宽比部件的蚀刻专利类型：发明专利
发明人：A·库玛尔,A·卡恩,A·奥耶,R·韦登斯韦勒,A·库玛
尔,M·G·查芬,A·霍洛坚科,D·V·波德勒斯尼克
申请号：CN01817958.4申请日：20011101公开号：CN1471727A公开日：20040128
摘要：一种衬底处理室(110)包括：一个气体供给装置(56)用以向该室提供气体，能够被电偏置的第一和第二电极(115、105)，适合于激励气体，第二电极(115)适合充电到至少10瓦/厘米的功率密度，并且第二电极(115)包括接一接纳表面(147)用以接纳衬底(10)，还包括一个排气装置(110)以排出气体。
申请人：应用材料有限公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人：赵蓉民
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