专利名称：利用光刻掩模所产生的辐射分布的局部解析测量的
装置与方法
专利类型：发明专利发明人：R.弗赖曼
申请号：CN201180039014.9申请日：20110615公开号：CN103069342A公开日：20130424
摘要：一种用于利用光刻掩模(16)所产生的辐射分布(24)的局部解析测量的方法，包括提供辐射转换器(31,131)，其具有至少二维布置的转换器元件(32,132)，所述转换器元件可分别被置于活动状态和非活动状态，并在活动状态中转换入射辐射的波长。此方法还包括：操纵辐射转换器(31,131)数次，使得分别仅部分的转换器元件(32,132)处于活动状态；在辐射转换器(31,131)的每次操纵后，利用辐射分布(24)照射辐射转换器(31,131)，使得活动的转换器元件(32,132)发射波长转换的测量辐射(34)；在辐射分布(24)的每次照射时，记录测量辐射的各自原点位置(54)。此外，从以多次不同照射步骤记录的原点位置，确定光刻掩模(16)所产生的辐射分布(24)。
申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
地址：德国上科亨
国籍：DE
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：邱军
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