半导体超纯水设备用水水质标准

半导体超纯水设备用水水质标准

半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准，下面具体介绍下半导体超纯水设备。

半导体超纯水设备水质标准：

半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。 半导体超纯水设备制备工艺：

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外

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线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)

半导体超纯水设备的应用领域： 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。 晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。 集成电路生产中高纯水清洗硅片。

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。

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半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

高品质显像管、萤光粉生产。 汽车、家电表面抛光处理。

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