专利名称：载置台和基板处理装置专利类型：发明专利
发明人：小泉克之,高桥雅典,江崎匠大申请号：CN202010760245.X申请日：20200731公开号：CN112349646A公开日：20210209
摘要：本发明提供载置台和基板处理装置。对基板的最外周的温度进行控制。提供一种载置台，该载置台具有位于基板的外侧的第1面和载置基板的第2面，其中，该载置台与所述第1面对应地形成第1流路。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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