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照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法[发明专利]

2023-12-28 来源:爱问旅游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法专利类型:发明专利发明人:田中裕久

申请号:CN200880021453.5申请日:20080912公开号:CN101681125A公开日:20100324

摘要:本发明的目的是提供一种照明光学系统,为一种利用由光源(1)所供给的照明光而对被照射面进行照明的照明光学系统,包括:空间光调制器(S1),其配置在前述照明光学系统的光路内,并与前述照明光学系统的一部分的光学系统协动,在前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布;侦测部(30~33),其具有接受前述照明光的一部分的受光面(32a、33a),并对由前述光源朝向前述空间光调制器的光路内的位置处的前述照明光的光强度分布进行侦测;以及控制部(20),其根据前述侦测部所侦测的前述照明光的光强度分布,对前述空间光调制器进行控制。

申请人:株式会社尼康

地址:日本东京

国籍:JP

代理机构:北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人:寿宁

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