专利名称：曝光装置及曝光装置的控制方法、以及元件制造方
法
专利类型：发明专利发明人：柴崎祐一
申请号：CN201680071470.4申请日：20161206公开号：CN108369383A公开日：20180803
摘要：曝光装置(100)具备：照射装置(30)，对靶材(W)照射电子束；载台(26)，保持靶材；载台驱动系统，包含驱动载台的电磁马达；以及控制系统，基于电子束对靶材的照射状态来控制载台驱动系统。控制系统在针对靶材的电子束的照射时与未照射时，变更对载台驱动系统的控制内容。由此，能够使用电磁马达来作为载台的驱动源，且抑制载台驱动时的靶材上的电子束的照射位置偏移。
申请人：株式会社尼康
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：肖靖
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