专利名称：成膜装置专利类型：实用新型专利
发明人：长江亦周,尹诗流,马图腾,宫内充祐申请号：CN201821666566.8申请日：20181015公开号：CN209065995U公开日：20190705
摘要：本申请公开一种成膜装置，包括：真空容器；位于所述真空容器内的基板支架，其具有用于保持基板的基板保持面；位于所述真空容器内的成膜单元，其用于在所述基板上形成薄膜；位于所述真空容器内的照射单元，其用于向所述基板支架发射粒子；所述照射单元能使所述基板保持面的电位状态为单一电位。本申请提供的成膜装置在成膜过程中不会产生异常放电，保证薄膜形成过程的稳定，提升成膜质量。
申请人：株式会社新柯隆
地址：日本神奈川县
国籍：JP
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
代理人：党晓林
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