专利名称：一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置专利类型：发明专利发明人：杜宏伟,李圭铉,陈都申请号：CN201810835651.0申请日：20180726公开号：CN108919569A公开日：20181130
摘要：本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置，所述掩膜版，用于制作显示基板上的柱状隔垫物，包括遮光层，所述遮光层包括遮光图形和由所述遮光图形包围的多个开口图形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述开口图形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形。采用本发明实施例的掩膜版制作隔垫物时，能够遮挡、吸收开口图形双边的平行半角的紫外线，使得制作的隔垫物的顶部尺寸与底部尺寸的差值减少，从而能在隔垫物底部尺寸不变的情况下，增大制得的隔垫物的顶部尺寸，提升制得的隔垫物的支撑力，从而能有效避免Mura不良。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京银龙知识产权代理有限公司
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