控制薄膜厚度以实现均匀膜厚的喷涂装置及方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN02122589.3 （22）申请日 2002.06.14 （71）申请人 日本电气株式会社

地址 日本东京

（10）申请公布号 CN1392594A （43）申请公布日 2003.01.22

（72）发明人 岛根誉

（74）专利代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人 穆德骏

（51）Int.CI

H01L21/027; H01L21/30; B05C5/00; B05C11/08; G03F7/16;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

控制薄膜厚度以实现均匀膜厚的喷涂装置及方法

（57）摘要

一种喷涂装置包括：喷涂单元，它根据喷

涂条件将光刻胶喷涂到半导体晶片上；厚度测量单元，它用于测量所喷涂的光刻胶的薄膜厚度；

以及控制单元，它用于控制喷涂单元。根据用于预定数目样品的喷涂条件的信息以及预定数目样品上的薄膜厚度的信息，控制单元描绘出近似曲线，该曲线代表了薄膜厚度与预定数目样品的喷涂条件之间的关系。当喷涂装置开始其实际操作时，控制单元在所绘制出的近似曲线的基础上根据厚度目标值计算出喷涂条件的修正值，并且根据计算出来的修正值产生控制信号以控制喷涂条件。

法律状态

法律状态公告日

法律状态信息

2002-09-11 实质审查的生效 2002-09-11 实质审查的生效 2003-01-22 公开 2003-01-22 公开

2003-04-16 实质审查的生效 2003-04-16 实质审查的生效

2003-06-04 专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

2003-06-04 专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

2003-06-04 专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

2005-01-26 发明专利申请公布后的视为撤回

2005-01-26

发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态

实质审查的生效 实质审查的生效 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

发明专利申请公布后的视为撤回

发明专利申请公布后的视为撤回

权利要求说明书

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说明书

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