专利名称：一种大面积薄膜的可控制备装置及方法专利类型：发明专利发明人：王跃,李雪松,青芳竹申请号：CN201910634635.X申请日：20190715公开号：CN110408911A公开日：20191105
摘要：本领域属于薄膜材料制备技术领域，涉及化学沉积装置，具体为一种大面积薄膜的可控制备装置及方法。本发明在管式炉(石英管)中放入紫外发生装置，利用紫外光(波长为10～400nm)具有极高的能量、能够在一定波长的情况下使化合物裂解的特性，通过紫外光对碳氢化合物等进行裂解，使薄膜的生长温度大大降低，能够在低温甚至在常温下进行制备；同时，紫外发生装置能够任意方向移动，进而能够制备出特定形状的薄膜，这样极大地节省了能源和制备成本，提高了效率。
申请人：电子科技大学
地址：611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
国籍：CN
代理机构：电子科技大学专利中心
代理人：甘茂
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