专利名称：辐射探测装置及制造方法专利类型：发明专利
发明人：O·莫内,G·蒙特蒙,L·韦尔热,M-C·让泰申请号：CN201110293900.6申请日：20110629公开号：CN102393530A公开日：20120328
摘要：本发明涉及致电离辐射探测装置的制造方法，所述装置包括：称为半导体块的半导体材料块(100)，半导体块适于经受在电离辐射的作用下在正电荷和负电荷之间的电荷的局部分离；第一系列的至少两个电极(130)，称为收集电极，收集电极被形成在所述半导体块(100)的表面；第二系列的至少两个电极(310)，称为非收集电极，非收集电极由一载体(300)承载，并被称为绝缘层的介电材料或电绝缘材料制的层(500)与半导体块(100)隔开。所述方法的特征在于，在载体(300)上形成绝缘层(500)以覆盖非收集电极之后，把承载收集电极(130)的半导体材料块(100)与承载非收集电极和绝缘层的载体(300)装配在一起。
申请人：原子能及能源替代委员会
地址：法国巴黎
国籍：FR
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：李丽
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