为什么中国芯片领域被美国封锁,就是为了针对中国么?
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据新京报报道，在面临美国制裁后，中科院强势入场，无需EVA技术的芯片技术正在不断的被探索之中，而理论进步的同时，中企近期也有了新的动作，中芯国际在内的大量公司纷纷开始在自己已有的技术上钻研，目前，中芯国际的是14纳米芯片，已经到达了量产的水平，一步步向7纳米性能开始迈步，A+1芯片也开始进行小规模试产，弯道超车不再是幻想。
当前，因为中国的芯片工艺和相关半导体领域的技术被美国所封锁，而掌握的EVA技术需要漫长的实验和众多有经验的工匠着力于联手打造，短期内很难迅速被派上用场，为此，中科院快速入场，加强技术的投入，尽可能给中国技术和人才保底，另一方面同步绕过当前紫外线光刻技术生产5纳米芯片，目前也找出了一条切实可行的道路，那就是激光直写技术。
既然传统的EUV技术被美国所垄断，唯一能够生产5纳米芯片的只有asml公司，由于这些技术本身就是相当精细的活，所以不管是技术，还是应用领域都需要有足够的积累，中国在这方面显然要孱弱一些，为此，中国必须要保证进度，着力于向前通行，考虑到条条大路通罗马，能完成5纳米工艺的技术，并不止这一条激光直写技术已经被纳入提案之中，虽然它的精度总是会成为摆在制造高精度芯片面前的一道难题，但中科院很早就有相关的理论布局，并且已经拥有全球第3家高能准分子激光器，完全可以打破西方垄断，而且还属于第一梯队。
按现有技术来看，利用激光直写设备制备5纳米线路并不是不可实现的，不过需要清楚的是，这个技术尚且并没有完全成熟，还处于研究阶段，asml的EVA技术早就在数年前就已经完成突破，但最终的量产却姗姗来迟，因此，想要完全指望激光直写技术来打破垄断，多少还是有些不切实际，为此，中国相关企业也在逐步为未来做出准备，中心国际基于14纳米制程推出N+1小芯片的小规模量产已经完成，并且交给客户试用，该芯片尽管在制程工艺上的提升微乎其微，但却在不断的优化各种设计和技术，根据中芯国际方面介绍，相较于初始的14纳米芯片它提升了20％，虽然它比起西方稍有不如，但实际性能的突破却不容小觑。
